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簡(jiǎn)要描述：Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光反射鏡新型高損傷閾值激光鏡專(zhuān)為飛秒激光器設(shè)計(jì)。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。
產(chǎn)品品牌：Eksma廠(chǎng)商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2021-03-22訪(fǎng) 問(wèn) 量：1110相關(guān)文章
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| 品牌 | Eksma | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類(lèi)別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光鏡
Eksma 適用于飛秒應(yīng)用的高功率激光反射鏡
高損傷閾值激光鏡，專(zhuān)為飛秒激光器設(shè)計(jì)。使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。
產(chǎn)品介紹
新型高損傷閾值激光鏡專(zhuān)為飛秒激光器設(shè)計(jì)。這些鏡子使用的IBS鍍膜技術(shù)生產(chǎn)。反射鏡的設(shè)計(jì)波長(zhǎng)包括515 nm，800 nm，1030 nm和寬帶720-880 nm范圍，反射值R> 99.8％。
在ISO標(biāo)準(zhǔn)21254-2 1000-on-1條件下，以50 fs脈沖，100 Hz在反射鏡設(shè)計(jì)波長(zhǎng)下測(cè)量激光誘導(dǎo)的損傷閾值。
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
產(chǎn)品型號(hào)
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 343 nm, LIDT @ 343 nm, 200 fs, 100 Hz
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
041-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
042-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
045-0343PHR-i0 | 343 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.8% | >0.4 J/cm² |
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 500-530 nm, LIDT @ 515 nm, 50 fs, 100 Hz
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0515T6HHR | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0515T6HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0515HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0515T12HHR-i0 | 500-530 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 760-840 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-0800T6HHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
041-0800T6UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
041-0800T6HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800HHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
042-0800UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
042-0800HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12HHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
045-0800T12UHHR-i0 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.4 J/cm² |
045-0800T12HHR-i0-45 | 760-840 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0-45° | 99.9% | >0.15 J/cm² |
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 720-880 nm, LIDT @ 800 nm, 50 fs, 100 Hz
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
081-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
081-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
082-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
085-7288T12HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 45° | 99.8% | >0.25 J/cm² |
087-7288HHR-i0 | 720-880 nm | UV FS | ø76.2 x 15 mm | 0° | 99.9% | >0.25 J/cm² |
設(shè)計(jì)波長(zhǎng) - 1000-1060 nm, LIDT @ 1030 nm, 50 fs, 100 Hz
型號(hào) | 波長(zhǎng) | 材料 | 尺寸 | AOI | R, % (S+P)/2 | 激光損傷閾值 |
041-1030T6HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
041-1030T6HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø12.7 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
042-1030HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø25.4 x 6 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 45° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
045-1030T12HHR-i0 | 1000-1060 nm | UV FS | ø50.8 x 12 mm | 0° | 99.9% | >0.3 J/cm² |
基材
材料 | UV級(jí)熔融石英 |
S1表面平整度 | λ/10 at 633 nm |
S1表面質(zhì)量 | 20-10表面光潔度 (MIL-PRF-13830B) |
S2表面質(zhì)量 | 簡(jiǎn)單拋光 |
直徑公差 | +0.00 mm / -0.12 mm |
厚度公差 | ±0.25 mm |
楔 | < 3 min |
倒角 | 0.3 mm at 45° typical |
鍍膜
技術(shù) | 離子束濺射（IBS） |
附著力和耐久性 | 根據(jù)MIL-C-675A，不溶于實(shí)驗(yàn)室溶劑 |
通光孔徑 | 超過(guò)直徑的85％ |
鍍膜表面平整度 | 透明孔徑下633 nm處的λ/ 10 |
激光引起的損傷閾值 | 在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)，50 fs脈沖，100 Hz下測(cè)量 |
EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學(xué)儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應(yīng)商。 我們的激光組件可在科學(xué)，工業(yè)，醫(yī)學(xué)，美學(xué)，軍事和航空航天市場(chǎng)的不同激光和光子學(xué)應(yīng)用中使用。 波長(zhǎng)范圍從紫外（193 nm）到可見(jiàn)光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學(xué)組件的應(yīng)用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應(yīng)用，激光介質(zhì)和非線(xiàn)性頻率轉(zhuǎn)換晶體，光機(jī)械，帶驅(qū)動(dòng)器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應(yīng)商，它們用于激光器和其他應(yīng)用光學(xué)儀器。
EKSMA Optics從1983年開(kāi)始在激光領(lǐng)域開(kāi)始其一項(xiàng)業(yè)務(wù)，其基礎(chǔ)是在激光和光學(xué)領(lǐng)域的長(zhǎng)期專(zhuān)業(yè)知識(shí)。
公司提供的所有組件均經(jīng)過(guò)質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室的高質(zhì)量測(cè)試和認(rèn)證。 通過(guò)嚴(yán)格的檢查程序，質(zhì)量控制評(píng)估以及對(duì)新技術(shù)的承諾，我們不斷改進(jìn)并提供優(yōu)良的質(zhì)量。 EKSMA OPTICS已通過(guò)ISO 9001：2015認(rèn)證。 必維檢驗(yàn)集團(tuán)（Bureau Veritas）頒發(fā)的認(rèn)證。
EKSMA OPTICS大力投資于的制造設(shè)備和擴(kuò)展制造能力。
公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學(xué)元件的切割，研磨和拋光設(shè)備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線(xiàn)性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設(shè)備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設(shè)備。 在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠(chǎng)中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設(shè)施可用于激光光學(xué)和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調(diào)制器的組裝設(shè)備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。
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